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ito靶材是什么
最佳答案简单明了的回答：
ITO靶材就是铟锡氧化物靶材，用于通过磁控溅射工艺，在玻璃基板或有机薄膜上镀上一层透明、导电薄膜，也就是ITO薄膜。ITO薄膜是目前氧化物薄膜里透光性和导电性最好的，所以ITO靶材是显示面板必须的上游材料。
PS：ITO靶材所需的铟在中国产量巨大，可惜高密度高纯度的ITO靶材都有日韩把控，国内目前生产的ITO靶材只能满足中低端需求。我所在的智隆科技是由世界知名的韩国LT集团投资的中方控股企业，拥有生产高密度高纯度ITO靶材的专利技术（知识产权和行业专利74项，ITO靶材项目专利32项）。公司位于广东中山的生产基地于今年投产，将填补国内高纯度溅射靶材市场的国产化空白，欢迎国内有中高端需求的客户联系合作。
ITO TARGET 是 什么东西？
最佳答案ITO靶材（ITO Target）是一种用于物理蒸发或磁控溅射等技术制备ITO（氧化铟锡）薄膜的材料。它通常呈固体块状，具有特定的形状和尺寸。
ITO靶材的制备一般是将ITO粉末通过压制和烧结等工艺形成固体靶材。ITO靶材的成分主要由铟（Indium）和锡（Tin）的氧化物组成，比例通常为90:10或97:3。这样的比例可以提供较低的电阻率和较高的透明度，适用于透明导电薄膜的制备。
ITO靶材在物理蒸发或磁控溅射过程中，被放置在真空腔室中，通过加热或电弧等方式使其蒸发或溅射，从而在基底上沉积形成ITO薄膜。ITO薄膜具有高透明度和良好的导电性能，广泛应用于液晶显示器（LCD）、有机发光二极管（OLED）、触摸屏、太阳能电池等透明导电器件中。
ITO靶材的形状和尺寸可以根据具体的设备和工艺要求进行定制，常见形状有圆盘状、方块状或其他特定形状。靶材的尺寸和厚度也根据应用需求和设备尺寸的不同而有所变化。
ITO靶材成型方法是什么？
最佳答案ITO靶材主要有四种成型方法
真空热压--真空热压法是利用热能和机械能使陶瓷材料致密化的工艺,可生产密度为91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材.过程如下:加热模具,加入样品,将模型固定在加热板上(控制熔化温度和时间),然后将样品熔化、硬化、冷却,最后就可以取出成品了出去.
热等静压--热等静压 (HIP)可以认为是加压烧结或高温压制.与传统的无压烧结相比,热等静压法可以在较低的温度下(一般为材料熔点的0.5~0.7倍左右)使材料完全致密.它可以很好地控制结构,抑制晶粒长大并获得均匀、各向同性的结构.热等静压制备ITO靶材的过程如下.首先,将ITO固溶体粉末在一定的还原气氛(如H2、N2和H2的混合物)和300~500℃的温度下进行部分还原.然后,通过模塑或冷等静压将还原的粉末压制成预制件.预制件被放置在不锈钢容器中,它们之间有绝缘材料.然后将容器抽真空并密封.最后,将容器放入800~1050℃、50~200MPa的热等静压炉中2~6小时,制备ITO靶材.
常温烧结--室温烧结是1990年代初期发展起来的一种靶材制备方法.它采用预压法(或浆液浇注法)制备高密度靶材预制件,然后在一定气氛和温度下烧结.常压烧结法的主要工艺过程是:将In2O3粉体(具有一定振实密度)与SnO2粉体混合,制备成泥浆浇铸用的料浆.然后在300~500℃的温度下进行长时间的脱水脱脂处理,最后在纯氧或空气气氛下,在1个大气压的压力下进行烧结,烧结温度为1450 至 1550 °C.
冷等静压--冷等静压(CIP)在常温下以橡胶或塑料为覆盖模具材料,以液体为压力介质传递超高压.在低压氧气氛的保护下,将ITO粉体通过冷等静压压制成大型陶瓷预制棒,然后在0.1~0.9 MPa的纯氧环境中,在1500~1600℃的高温下烧结.这种方法理论上可以生产出密度为95%的陶瓷靶材.
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